一种氧化锆牙科嵌体
- 专利权人:
- 武汉大学
- 发明人:
- 李勇
- 申请号：
- CN201721011730.7
- 公开号：
- CN208404915U
- 申请日:
- 2017.14.08
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型提供一种氧化锆牙科嵌体,包括嵌体本体;所述嵌体本体包括牙冠和位于牙冠下方的伸入髓腔部位的嵌体;所述嵌体表面均匀分布有圆形凹槽;所述最外缘的圆形凹槽的位置离牙冠底端边缘0.5‑1mm。本实用新型中凹槽的设计增加了氧化锆材料与牙体组织的粘接面积,并且凹槽开口小槽大的设计可以让粘接剂进入到修复材料之内,从而达到氧化锆粘接面与牙体组织之间机械锁合的粘接效应。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
