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一种电沉积聚酰胺酸制备低介电聚酰亚胺薄膜的方法
专利权人:
哈尔滨工业大学
发明人:
李垚,刘俊凯,赵九蓬
申请号:
CN201410232298.9
公开号:
CN103980528B
申请日:
2014.05.29
申请国别(地区):
中国
年份:
2016
代理人:
李涛`张东山
摘要:
本发明公开了一种电沉积聚酰胺酸制备低介电聚酰亚胺薄膜的方法。本发明的方法主要包括以下步骤:模板制备;聚酰胺酸乳液制备;电沉积聚酰胺薄膜;去除模板,表面涂覆聚酰胺酸溶液并加热固化得到致密的聚酰胺薄膜,梯度升温亚胺化制备聚酰亚胺薄膜。本发明的方法整个工艺过程安全,无需昂贵设备,且操作流程简单,制备的聚酰亚胺薄膜表面平整致密,具有超低介电常数,气孔三维有序排布,且孔径尺寸可控,具有良好的力学性能,在电工、电子信息、军事、航空航天等方面具有广阔的应用前景。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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