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光潜在系
专利权人:
チバ ホールディング インコーポレーテッド
发明人:
フリッシュ,カタリナ,フィッシャー,ウォルター,ベンコフ,ヨハネス,パウエル,カリン,シモン,ディーク
申请号:
JP2008539395
公开号:
JP5138599B2
申请日:
2006.10.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
Provision of [challenges] light potential system. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] Present invention provides a compound of formula, (I) [Formula 1] (In the formula, Each, independently of one another, no carbon atoms 1 to carbon atoms or 3 alkyl group of 10 to R 1 and R 2, represents a cycloalkyl group of 8, The carbon atoms 1 hydrogen atom or an alkyl group of 4, R 3 is, and, Group R 4 OH which is cleaved photochemically, are selected from the group consisting of fragrances, UV absorbers, antimicrobial agents, and the clarifying agent anti-fogging agent, However, when R 3 represents a hydrogen atom and R 2 is R 1 and represents a tert-butyl group, R 4 does not represent methyl or phenyl. Novel photolatent compounds of the formula). None [Selection Figure]【課題】光潜在系の提供。【解決手段】本発明は、式(I)【化1】(式中、R1及びR2は、各々、互いに独立して、炭素原子数1ないし10のアルキル基又は炭素原子数3ないし8のシクロアルキル基を表わし、R3は、水素原子又は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、及び、光化学的に開裂される基R4OHは、香料、UV吸収剤、抗菌剤、防曇剤及び透明剤からなる群から選択されるが、但し、R1及びR2が第三ブチル基を表わし、かつR3が水素原子を表わす場合、R4はメチル基又はフェニル基を表わさない。)で表わされる新規光潜在性化合物に関する。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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