光学活性ジアミン誘導体の製造方法
- 专利权人:
- 第一三共株式会社
- 发明人:
- 中村 嘉孝,道田 誠,金田 岳志
- 申请号：
- JP20150508781
- 公开号：
- JPWO2014157653(A1)
- 申请日:
- 2014.03.28
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- ＦＸａ阻害薬（Ｘ）及び（Ｘ−ａ）の製造における重要中間体化合物（１）及び（１ａ）の効率的な製造方法を提供することが課題である。立体選択的な分子内環化反応による式（８ｄ）で表される化合物の製造方法、及び、化合物（８ｄ）の脱スルホニル化を特徴とする、化合物（１ｆ）、その塩又はそれらの水和物の製造方法。【化１】［式中、Ｒ４ａは、Ｃ１−Ｃ６アルキル基、ベンジル基等を示す。］
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
