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発生ガス分析装置の校正方法及び発生ガス分析装置
- 专利权人:
- 株式会社日立ハイテクサイエンス
- 发明人:
- 秋山 秀之,丸岡 幹太郎
- 申请号：
- JP20150227372
- 公开号：
- JP2017096695(A)
- 申请日:
- 2015.11.20
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】検出感度の機差や日差変動等を簡便に補正し、測定対象を高い精度で定量することができる発生ガス分析装置の校正方法を提供する。【解決手段】試料を加熱してガス成分を発生させる加熱部と、ガス成分をイオン化してイオンを生成するイオン源と、イオンを質量分析してガス成分を検出する質量分析計と、を備えた発生ガス分析装置の校正方法において、ガス成分を測定対象として含む標準試料を用い、（１）標準試料のガス成分につき得られたマススペクトルのスペクトル位置を校正し、（２）標準試料のガス成分のクロマトグラムの面積Ｓと基準面積Ｓｓとから、実際の試料のガス成分のクロマトグラムの面積を測定する際の感度補正係数Ｃｓ＝Ｓｓ/Ｓを算出し、（３）クロマトグラムの最大ピークを与える時間ｔと基準時間ｔｓとから、実
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
