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连续式溅镀设备以及太阳能选择性吸收膜的制造方法
专利权人:
财团法人工业技术研究院
发明人:
庄瑞诚,张秉宏,叶咏津
申请号:
CN201110160445.2
公开号:
CN102465266A
申请日:
2011.06.07
申请国别(地区):
中国
年份:
2012
代理人:
祁建国`梁挥
摘要:
本发明公开了一种连续式溅镀设备以及太阳能选择性吸收膜的制造方法。所述连续式溅镀设备,至少包括基材传送装置、一个溅镀腔体、多个靶材及控制构件。其中基材传送装置用以使基材沿一个移动路径移动。溅镀腔体设置于基材的移动路径上。而多个靶材设置在溅镀腔体内,用以对基材进行溅镀,其中多个靶材依序设置于基材的移动路径上。控制构件用以控制溅镀时供给至多个靶材的操作参数,其中控制构件将溅镀时供给至多个靶材的操作参数控制为彼此不同。借由使用本发明的连续式溅镀设备,能够利用单一溅镀腔体来形成具有多层结构的太阳能选择性吸收膜。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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