口腔内薄膜状基剂及制剂
- 专利权人:
- 日东电工株式会社
- 发明人:
- 浅利大介,堀光彦,宍户卓矢
- 申请号：
- CN201310007094.0
- 公开号：
- CN103202822B
- 申请日:
- 2013.01.09
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种口腔内薄膜状基剂，其具有在口腔内的迅速溶出曲线和充分的薄膜强度，进而通过在口腔内发泡而改善服用性。一种口腔内薄膜状基剂，其特征在于，其含有可溶于水及溶解度参数为9.7以上的有机溶剂的可食性高分子、发泡剂、和发泡助剂，上述发泡剂具有在水存在下发泡的性质，上述发泡剂及发泡助剂不溶于上述有机溶剂，平均粒径为0.1~60μm，且以颗粒状态被包含。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
