口腔内薄膜状基剂及制剂
- 专利权人:
- 日东电工株式会社
- 发明人:
- 浅利大介,堀光彦,小川景子
- 申请号：
- CN200980155744.8
- 公开号：
- CN102300565B
- 申请日:
- 2009.03.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明中，通过将可溶于水及溶解度参数为9.7以上的有机溶剂的可食性高分子和选自由不溶于有机溶剂的单糖～六糖的糖及它们的糖醇组成的组中的1种或2种以上的平均粒径为0.1～60μm的颗粒分散到该有机溶剂中，制成糖及糖醇中的1种以上以微粒的状态分散的薄膜状基剂，进而使其含有药物，制成薄膜状制剂。其结果能够提供一种口腔内薄膜状基剂及制剂，其具有在口腔内的迅速溶出曲线和充分的薄膜强度，进而，口腔内的由水溶性高分子带来的粘糊感得到降低，指触时的触感也得到提高。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
