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COMPOSITIONS DE NETTOYAGE LIMPIDES FAIBLEMENT IRRITANTES À PH RELATIVEMENT BAS
专利权人:
MACK, Mary, Catherine; INC.;GANDOLFI, Lisa, R.;GUN, Euen Thomas Ekman Graham;WALTERS, Russel, M.;JOHNSON & JOHNSON CONSUMER COMPANIES, INC.;JOHNSON & JOHNSON CONSUMER COMPANIES;LAHEY, Kevin, C.
发明人:
GUN, Euen Thomas Ekman Graham,WALTERS, Russel, M.,GANDOLFI, Lisa, R.,LAHEY, Kevin, C.,MACK, Mary, Catherine
申请号:
USUS2011/041611
公开号:
WO2011/163467A3
申请日:
2011.06.23
申请国别(地区):
US
年份:
2012
代理人:
摘要:
The methods and compositions of this invention relate to compositions having low irritation characteristics in combination with one or more additional characteristics, for example, relatively high clarity, relatively high foaming, and/or combinations thereof, as well as methods of making and using such compositions. These compositions contain blends of amphoteric surfactants, have low pH values and are useful in cleansing the skin.La présente invention concerne des compositions qui présentent des caractéristiques de faible irritation ainsi qu'une ou plusieurs autres caractéristiques, telles qu'une limpidité relativement élevée, un moussage relativement élevé et/ou des combinaisons de ces caractéristiques, ainsi que des procédés de préparation et d'utilisation de ces compositions. Ces compositions contiennent des mélanges d'agents tensioactifs amphotères, ont de faibles valeurs de pH et sont utiles pour le nettoyage de la peau.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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