A method of manufacturing three-dimensional thin-film nitinol (NiTi) devices includes: depositing multiple layers of nitinol and sacrificial material on a substrate. A three-dimensional thin-film nitinol device may include a first layer of nitinol and a second layer of nitinol bonded to the first layer at an area masked and not covered by the sacrificial material during deposition of the second layer.Un procédé de fabrication de dispositifs tridimensionnels à base de nitinol (NiTi) en couche mince consiste à déposer de multiples couches de nitinol et de matériau sacrificiel sur un substrat. Un dispositif tridimensionnel à base de nitinol en couche mince peut comporter une première couche de nitinol et une seconde couche de nitinol liée à la première au niveau d'une zone protégée d'un masque et non recouverte du matériau sacrificiel lors du dépôt de la seconde couche.
