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流体涂抹装置及方法
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专利权人:
大冢制药美国公司
发明人:
H·L·洛柯维齐,P·P·梵纳克
申请号:
CN200580039298.6
公开号:
CN101060881B
申请日:
2005.11.14
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
本发明涉及一种用于涂抹流体的装置。涂抹器装置用于涂抹流体,所述装置包括:具有近端和远端的手柄;连接到手柄近端的基部;以及连接到基部的基本亲水性泡沫,其中,所述基本亲水性泡沫构造成接纳所述流体。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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