流体涂抹装置及方法

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专利权人:

大冢制药美国公司

发明人:

H·L·洛柯维齐,P·P·梵纳克

申请号：

CN200580039298.6

公开号：

CN101060881B

申请日:

2005.11.14

申请国别(地区):

CN

年份:

2012

代理人:

摘要：

本发明涉及一种用于涂抹流体的装置。涂抹器装置用于涂抹流体，所述装置包括：具有近端和远端的手柄；连接到手柄近端的基部；以及连接到基部的基本亲水性泡沫，其中，所述基本亲水性泡沫构造成接纳所述流体。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/