流体涂抹装置和方法

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专利权人:

大冢制药美国公司

发明人:

R·J·凯西,P·P·梵纳克,R·D·哈撒韦,D·L·富希,T·J·莫斯勒,N·J·贾丁,K·L·贝诺克瑞提斯

申请号：

CN200980157624.1

公开号：

CN102333564B

申请日:

2009.12.29

申请国别(地区):

CN

年份:

2015

代理人:

摘要：

本申请涉及一种用于涂抹流体的系统(10)。该系统包括容纳流体的包(12)和带有手柄(16)的涂抹器装置(14)。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/