一种结合时差成像和频差成像的电阻抗成像方法
- 专利权人:
- 中国人民解放军第四军医大学
- 发明人:
- 杨琳,张学思,代萌,付峰,董秀珍,文治洪,王航
- 申请号：
- CN201910049961.4
- 公开号：
- CN109758149A
- 申请日:
- 2019.18.01
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种结合时差成像和频差成像的电阻抗成像方法,该方法通过采用两个不同时刻同一频率处的两组测量数据进行时差成像,获得成像目标体积变化而导致的成像目标(位于成像区域内)电阻抗变化,然后通过采用同一时刻不同频率处的两组测量数据进行频差成像,获得成像目标电导率变化而导致的成像目标(位于成像区域内)电阻抗变化,最终结合时差重构结果和频差重构结果计算在某一时刻的成像目标体积(三维成像)或者成像目标面积(二维成像)。本发明利用时差成像和频差成像的各自特点,能够计算成像目标(位于成像区域内)在某一时刻的体积(或面积)。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
