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一种硅微针基板及其制备方法
专利权人:
山东元旭光电股份有限公司
发明人:
郭文平,赵科研,许南发
申请号:
CN201611176719.6
公开号:
CN106730309A
申请日:
2016.12.19
申请国别(地区):
CN
年份:
2017
代理人:
摘要:
本发明公开了一种硅微针基板及其制备方法,硅微针制备方法包括硅基板清洗,硅基板保护膜,光刻,图形转移和湿法刻蚀硅基板步骤。硅基板净化后,在硅基板的两面生长二氧化硅膜,然后在二氧化硅膜上面遮盖上带有实体图形的掩膜板,经过光刻、曝光等将掩膜板上的实体图形转移到二氧化硅膜上,再利用湿法刻蚀硅基板制得针尖和针体,然后用BOE腐蚀去掉多余的二氧化硅膜得到硅微针基板。本发明工艺简单,仅需湿法刻蚀便可制得所需硅微针,避免了干法刻蚀带来的环境污染和大量资金使用,经济实惠,所制硅微针耐用性好,特别适合用于美容、医疗器械和生物医疗领域,尤其是透皮给药的异平面硅微针基板的制备,适合于大规模生产。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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