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DISPOSITIF ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
专利权人:
TORAY INDUSTRIES; INC.;TORAY INDUSTRIES, INC.;東レ株式会社
发明人:
KITAGAWA, Rumiko,北川瑠美子,NAKAMURA, Masataka,中村正孝
申请号:
JPJP2017/006615
公开号:
WO2017/146102A1
申请日:
2017.02.22
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
A device that includes: a substrate; and a hydrophilic polymer layer that comprises a hydrophilic polymer that has a hydroxyl group. The hydrophilic polymer layer that has a hydroxyl group is adhered to at least one portion of the surface of the substrate. The hydrophilic polymer also includes an amide group. The liquid film retention time of the device is 15 seconds or longer. A device wherein the surface of a substrate has been hydrophilized, and a simple method for producing said device.La présente invention concerne un dispositif qui comprend : un substrat ; et une couche de polymère hydrophile qui comprend un polymère hydrophile qui comporte un groupe hydroxyle. La couche de polymère hydrophile qui comporte un groupe hydroxyle est collé à au moins une partie de la surface du substrat. Le polymère hydrophile comprend en outre un groupe amide. Le temps de rétention de film liquide du dispositif est de 15 secondes ou plus. L'invention concerne en outre un dispositif dans lequel la surface d'un substrat a été hydrophilisée, et un procédé simple pour produire ledit dispositif.基材および水酸基を有する親水性ポリマーからなる親水性ポリマー層を含み、前記基材表面上の少なくとも一部に水酸基を有する親水性ポリマー層が固着したデバイスであって、前記親水性ポリマーがさらにアミド基を含み、かつ、デバイスの液膜保持時間が15秒以上である、デバイス。基材の表面が親水化されたデバイスおよびそれを簡便な方法により製造する方法を提供する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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