Method for producing a surface structure (1b) comprising the following steps: - providing a substrate (2) having the surface (1) to be treated - irradiating a portion or zone of the surface (1) with a beam (13) of a pulsed ultraviolet laser (12) projecting a mark (14) on the surface (1), so that the energy density per pulse varies of from 0.003 to 0.5 microjoules per square micrometer - move the mark (14) on the surface (1) to be treated - irradiation repeat a number of times characterized in that the UV pulsed laser (12) has a pulse length of 5 to 10 picoseconds and a pulse frequency of 200 to 300 kilohertz.Método para producir una estructura de superficie (1b) que comprende las siguientes etapas: - proporcionar un sustrato (2) que tiene la superficie (1) a tratar - irradiar una parte o zona de la superficie (1) con un haz (13) de un láser ultravioleta pulsado (12) que proyecta una marca (14) sobre la superficie (1), de modo que la densidad de energía por pulso varía de 0,003 a 0,5 microjulios por micrómetro cuadrado - mover la marca (14) sobre la superficie (1) a tratar - repetir la irradiación un cierto número de veces caracterizado porque el láser UV pulsado (12) tiene una longitud de pulso de 5 a 10 picosegundos y una frecuencia de pulso de 200 a 300 kilohercios.制造表面结构(1b)的方法,包括以下步骤:-提供具有待处理表面(1)的基板(2);-用脉冲紫外激光器(12)的光束(13)照射表面(1)的一部分或区域,在表面(1)上投射标记(14),使得t每个脉冲的能量密度从0.003变化到0。每平方微米5微焦耳;-移动待处理表面(1)上的标记(14);-辐照重复多次;特征在于紫外脉冲激光器(12)具有5-10皮秒的脉冲长度和200-300千赫的脉冲频率。
