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プラズマシャッター形成装置および形成方法
专利权人:
浜松ホトニクス株式会社
发明人:
鈴木 将之,桐山 博光,大東 出,岡田 大,杉山 博則,松岡 伸一,菅 博文
申请号:
JP2010237682
公开号:
JP5676204B2
申请日:
2010.10.22
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma shutter forming apparatus and a plasma shutter forming method to prevent damage of an optical element due to return light reflecting and returning to upstream of a laser driven radiation generating system when producing high density plasma in the laser driven radiation generating system.SOLUTION: In the system to generate and accelerate radiation by irradiating a laser pulse 5 to a target 2 and producing high density plasma 3, this apparatus is to form a plasma shutter 11 to interrupt the laser pulse turned into the return light 4 to an upstream of the system without being absorbed by the high density plasma 3. The apparatus has the target 10 for the plasma shutter and a laser irradiating portion for the plasma shutter, forms the plasma shutter 11 by irradiating the laser pulse from the laser irradiating portion for the plasma shutter to the target 10 for the plasma shutter to produce high density plasma, and interrupts the laser pulse turned into the return light 4.COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT【課題】レーザー駆動放射線発生システムにおいて高密度プラズマを生成した際に反射してレーザーシステムの上流に戻る戻り光による光学素子の損傷を防止するプラズマシャッター形成装置および形成方法を提供する。【解決手段】レーザーパルス5をターゲット2に照射して高密度プラズマ3を生成させることにより放射線を発生、加速させるシステムにおいて、高密度プラズマ3に吸収されないでシステム上流への戻り光4となったレーザーパルスを遮断するためにプラズマシャッター11を形成する装置であって、プラズマシャッター用ターゲット10と、プラズマシャッター用レーザー照射部を有し、前記プラズマシャッター用レーザー照射部からのレーザーパルスをプラズマシャッター用ターゲット10に照射して高密度プラズマを生成させプラズマシャッター11を形成し、戻り光4となったレーザーパルスを遮断させる。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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