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一种基于光氢离子技术的面料抗菌方法
专利权人:
高梵(浙江)信息技术有限公司
发明人:
吴昆明,张传贵
申请号:
CN202011109071.7
公开号:
CN112245624A
申请日:
2020.10.16
申请国别(地区):
CN
年份:
2021
代理人:
摘要:
本发明公开了一种基于光氢离子技术的面料抗菌方法,步骤包括:将面料放置于容器中,往容器中加入蒸发液,使面料完全被蒸发液浸没;对容器进行抽真空,再对容器内蒸发液进行超声波处理和加热处理,使蒸发液携带面料中的有害微生物沸腾变成蒸气,再将不断蒸气抽出;采用光氢离子净化设备对抽出的蒸气进行灭菌处理。本发明克服了光氢离子技术只能适用于净化环境空气的技术局限,实现了其在面料抗菌处理中的应用,使得面料处理过程无任何化学残留物质,对人体和环境无害;经抽真空、超声以及低温蒸发处理,使面料中有害微生物高效去除,并可长久保持面料的抗菌性;可批量处理,生产效率高,且对面料纤维不造成损伤,有助于保持面料的原有品质。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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