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SOLUTION CONTENANT UN COMPOSÉ PRÉCURSEUR DE MARQUEUR POUR COMPOSÉ MARQUÉ AU FLUOR RADIOACTIF
专利权人:
日本メジフィジックス株式会社;NIHON MEDI-PHYSICS CO., LTD.
发明人:
ICHIKAWA Hiroaki,市川浩章,OKUMURA Yuki,奥村侑紀,WATANABE Yurie,渡邉友理恵,SEKIGUCHI Ko,関口康,SUZUKI Maki,鈴木麻希
申请号:
JPJP2019/031383
公开号:
WO2020/039962A1
申请日:
2019.08.08
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
The present invention provides a solution which is for improving the stability of a precursor compound for a radioactive fluorine-labeled compound, and in which a compound represented by formula (2) or a salt thereof is stored in a state of being dissolved in an organic solvent (in the formula, X1 represents a hydrogen atom or a halogen atom, X2 represents a fluorine atom or a nitrile group, R1 represents a substituted or unsubstituted alkylsulfonyloxy group, or a substituted or unsubstituted arylsulfonyloxy group).La présente invention concerne une solution qui est destinée à améliorer la stabilité d'un composé précurseur pour un composé marqué au fluor radioactif, et dans laquelle un composé représenté par la formule (2) ou un sel de celui-ci est stocké dans un état dans lequel il est dissous dans un solvant organique (dans la formule, X1 représente un atome d'hydrogène ou un atome d'halogène, X2 représente un atome de fluor ou un groupe nitrile, R1 représente un groupe alkylsulfonyloxy substitué ou non substitué, ou un groupe arylsulfonyloxy substitué ou non substitué).本発明は、放射性フッ素標識化合物の前駆体化合物の安定性を向上させるものであり、下記式(2)で表される化合物又はその塩を、有機溶媒に溶解した状態で保存した溶液を提供する。 〔式中、X1は水素原子又はハロゲン原子を示し、X2はフッ素原子又はニトリル基を示し、R1は置換若しくは非置換アルキルスルホニルオキシ基、又は、置換若しくは非置換アリールスルホニルオキシ基を示す。〕
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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