薄膜状制剂及其制造方法
- 专利权人:
- 日东电工株式会社
- 发明人:
- 浅利大介,堀光彦,宍户卓矢
- 申请号：
- CN201611095356.3
- 公开号：
- CN106890162A
- 申请日:
- 2011.03.28
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供一种薄膜状制剂及其制造方法，所述薄膜状制剂具有在口腔内的迅速溶出曲线、充分的薄膜强度，并且其外观和触感优异。一种薄膜状制剂，其含有在水和极性有机溶剂中为可溶性的可食性高分子和在极性有机溶剂中为不溶性的药物颗粒。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
