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口腔内薄膜状基剂和制剂
专利权人:
日东电工株式会社
发明人:
松下恭平,浅利大介,宍户卓矢,堀光彦
申请号:
CN201510536185.2
公开号:
CN105380928A
申请日:
2015.08.27
申请国别(地区):
CN
年份:
2016
代理人:
摘要:
本发明涉及口腔内薄膜状基剂和制剂,其目的在于,提供具有口腔内的迅速的溶解曲线、充分的薄膜强度、指触时的触感、口腔内的食感、味道等也良好、对需要限制糖分的人也容易给药的口腔内薄膜状基剂和制剂。本发明为含有可食性高分子和选自由氨基酸、二肽和核苷酸组成的组中的至少1种的颗粒的口腔内薄膜状基剂,前述可食性高分子可溶于水和溶解度参数为9.7以上的有机溶剂,前述选自由氨基酸、二肽和核苷酸组成的组中的至少1种的颗粒以颗粒的状态分散于前述口腔内薄膜状基剂中。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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