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パターン測定方法、荷電粒子線装置の装置条件設定方法、および荷電粒子線装置
- 专利权人:
- 株式会社日立ハイテクノロジーズ
- 发明人:
- 鈴木 誠,山口 聡,酒井 計,伊澤 美紀,高田 哲,蓮見 和久,井古田 まさみ
- 申请号：
- JP20140558582
- 公开号：
- JPWO2014115740(A1)
- 申请日:
- 2014.01.22
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本発明は、ＤＳＡ技術によって形成されたパターンを、高精度に測定、検査できるパターン測定法、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。上記目的を達成するための一態様として以下に、自己組織化リソグラフィ技術に用いられる高分子化合物に対し、荷電粒子を照射して当該高分子化合物を形成する複数のポリマーの内、特定のポリマーを他のポリマーに対して大きく収縮させた後に、当該他のポリマーを含む領域に荷電粒子ビームの走査によって得られる信号に基づいて、前記他のポリマーの複数のエッジ間の寸法測定を行うパターン測定方法、或いは当該測定を実現する荷電粒子線装置を提案する。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
