硫化氫緩釋敷料及其製造方法

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专利权人:

BENQ MATERIALS CORPORATION

发明人:

YAP, LIE-SIAN,叶丽仙,葉麗仙,CHAO, CHIH YUAN,赵志源,趙志源,WANG, YU PU,王毓璞

申请号：

TW108103368

公开号：

TWI694844B

申请日:

2019.01.29

申请国别(地区):

TW

年份:

2020

代理人:

摘要：

The invention is to provide a hydrogen sulfide slowly releasing dressing and a manufacturing method thereof. The hydrogen sulfide slowly releasing dressing comprises a hydrocolloid, a surfactant and sodium hydrosulfide.本發明係提供一種硫化氫緩釋敷料及其製造方法。本發明之硫化氫緩釋敷料包含一水膠體、一介面活性劑以及一硫氫化鈉。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/