等离子体处理胡麻种子及配套栽培方法
- 专利权人:
- 李永青
- 发明人:
- 李永青
- 申请号：
- CN201510664161.5
- 公开号：
- CN105103936B
- 申请日:
- 2015.10.13
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 李毅
- 摘要：
- 本发明公开了一种等离子体处理胡麻种子及配套栽培方法，包括：（1）等离子体处理种子 采用等离子体处理机，处理剂量为1.2－2.0A，处理3次，种子流量为1.0－1.5kg/min，处理后6‑10天播种；(2) 除草 播种前7‑10天，喷施除草剂；(3)播种 在同一生态区，延用当地常用品种时，较适期提早4‑8天播种；适期播种时，选择较常用品种生育期短4－8天的品种；(4)施肥 播种的同时施足氮、磷元素的化肥，依土壤肥瘦施用尿素75‑150kg/hm2、磷酸二铵75‑150kg/hm2；（5）中耕 当苗高15‑20cm时中耕一次；(6) 收获 当蒴果70%变褐色时收获。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
