等离子体处理胡麻种子及配套栽培方法
- 专利权人:
- 李永青
- 发明人:
- 李永青
- 申请号：
- CN201510664161.5
- 公开号：
- CN105103936A
- 申请日:
- 2015.10.13
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 李毅
- 摘要：
- 本发明公开了一种等离子体处理胡麻种子及配套栽培方法，包括：（1）等离子体处理种子，采用等离子体处理机，处理剂量为1.2-2.0A，处理3次，种子流量为1.0-1.5kg/min，处理后6-10天播种；(2)除草，播种前7-10天，喷施除草剂；(3)播种，在同一生态区，延用当地常用品种时，较适期提早4-8天播种；适期播种时，选择较常用品种生育期短4-8天的品种；(4)施肥，播种的同时施足氮、磷元素的化肥，依土壤肥瘦施用尿素75-150kg/hm2、磷酸二铵75-150kg/hm2；（5）中耕，当苗高15-20cm时中耕一次；(6)收获，当蒴果70%变褐色时收获。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
