控制在医用注射器、药筒等上的PECVD沉积的均匀性
- 专利权人:
- SIO2医药产品公司
- 发明人:
- C·维卡普特,B·L·克拉克,A·史蒂文森,R·S·阿伯拉姆斯,J·贝尔泛斯,J·A·琼斯,T·E·费斯克
- 申请号：
- CN201380070717.7
- 公开号：
- CN105705676B
- 申请日:
- 2013.11.25
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 描述了用于等离子体修饰一种工件诸如医用筒、医用筒、小瓶、或血液管的一种方法和设备。在该工件的内腔内提供等离子体。在有效于等离子体修饰该工件的表面的条件下提供该等离子体。在该内腔的至少一部分中提供磁场。该磁场具有一种取向和场强度,该取向和场强度有效于改善对总体上为圆柱形的内表面16的总体上为圆柱形的内表面16进行的等离子体修饰的均匀性。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
