立式热处理装置
- 专利权人:
- 东京毅力科创株式会社
- 发明人:
- 古泽纯和
- 申请号：
- CN201810265221.X
- 公开号：
- CN108695200A
- 申请日:
- 2018.03.28
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 刘新宇
- 摘要：
- 本发明涉及立式热处理装置，在将棚架状地保持晶圆的基板保持器具搬入反应容器内并且在真空环境下对基板进行热处理时，抑制微粒附着于基板。在将多个晶圆以棚架状地保持于作为基板保持器具的晶舟后搬入反应容器内，并且在真空环境下进行热处理，从被设为在反应容器内以沿晶舟的高度方向延伸的、且沿晶舟而形成有多个气体喷出孔的气体喷嘴喷出气体。微粒与气体一并从气体喷出孔喷出，在反应容器的内壁上的、隔着晶舟而与气体喷嘴相向的区域形成带状延伸的突起部，使微粒与突起部碰撞而向上下方向或横向反弹。由此，能够抑制微粒向晶圆侧反弹，因此能够抑制微粒附着于晶圆。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
