High detergency silica having low abrasiveness and method for producing the same

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专利权人:

ジェイ・エム・フーバー・コーポレーション

发明人:

フィッツジェラルド エイ シンクレア

申请号：

JP2016502517

公开号：

JP2016519663A

申请日:

2014.03.14

申请国别(地区):

JP

年份:

2016

代理人:

摘要：

Silica materials having high cleaning and low abrasive properties, as well as methods for making such materials and dentifrice compositions containing silica materials are described.高い洗浄特性および低い研磨特性を有するシリカ材料、ならびにこうした材料の製造方法およびシリカ材料を含む歯磨剤組成物について記載する。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/