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high-abrasion silica with low abrasion and production method
专利权人:
J.M. HUBER CORPORATION
发明人:
FITZGERALD A. SINCLAIR
申请号:
BR112015023794
公开号:
BR112015023794A2
申请日:
2014.03.14
申请国别(地区):
BR
年份:
2017
代理人:
摘要:
Summary “low abrasion high cleaning silica and method for producing it” are silica materials having high cleaning and low abrasion properties, together with methods for producing such materials and dentifrice compositions which comprise silica materials.resumo “sílica de alta limpeza com baixa abrasão e método para a produção da mesma” trata-se de materiais de sílica que têm propriedades de alta limpeza e baixa abrasão, em conjunto com métodos para a produção de tais materiais e composi-ções dentifrícias que compreendem os materiais de sílica.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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