采用浸渍溶剂的抗蚀剂组合物评价方法
- 专利权人:
- 东京应化工业株式会社
- 发明人:
- 平山拓,羽田英夫,藤村悟史,岩井武,佐藤充,高须亮一,立川俊和,岩下淳,石塚启太,山田知孝,高山寿一,吉田正昭
- 申请号：
- CN200510137592.2
- 公开号：
- CN1800846A
- 申请日:
- 2004.01.27
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2006
- 代理人:
- 陈长会
- 摘要：
- 一种在包括浸渍曝光的抗蚀剂图案形成方法中使用的抗蚀剂组合物的评价方法，该方法包括：由抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜，将该膜选择性曝光，其后使在浸渍曝光中使用的浸渍溶剂与膜接触，将如此得到的膜曝光后烘焙，接着将膜显影，以及评价得到的抗蚀剂图案。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
