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Plant cultivation method and plant cultivation apparatus
专利权人:
シャープ株式会社;国立大学法人静岡大学
发明人:
船守 宏和,山本 聡彦,飯屋谷 和志,西川 和男,一家 崇志,森田 明雄,田中 靖乃,小野 義貴
申请号:
JP2018502506
公开号:
JPWO2017149806A1
申请日:
2016.08.31
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
Promote plant growth in a simple way. The plant (10) is irradiated with positive ions and negative ions.植物の成長を簡易な方法で促進する。植物(10)に正イオン及び負イオンを照射する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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