中空二氧化硅颗粒、包含它们的组合物以及它们的制备方法
- 专利权人:
- 宝洁公司
- 发明人:
- K·K·卡拉,M·D·布茨,D·S·威廉姆斯,S·E·杰诺维斯
- 申请号：
- CN200680029083.0
- 公开号：
- CN101299989B
- 申请日:
- 2006.08.09
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了包含中空二氧化硅颗粒的组合物及其制备方法，所述颗粒由包含含硅化合物的组合物制成，所述含硅化合物选自由下列物质组成的组：四烷氧基硅烷、三烷氧基硅烷及其衍生物、二烷氧基硅烷及其衍生物、烷氧基硅烷及其衍生物、硅氧烷低聚物、低聚倍半硅氧烷和硅氧烷低聚物。所述含硅化合物分散在聚合物模板内核上，所述内核将从所述颗粒中消除。本发明的颗粒具有基本均匀的粒度并显示对液体的低渗透性。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
