YOU, WOO YOUNG,유우영,KIM, HAK CHEOL,김학철,KIM, YONG SUN,김용선
申请号：
KR1020120089884
公开号：
KR1020140023668A
申请日:
2012.08.17
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要：
The present invention relates to a cosmetic composition for skin cleaning. The cosmetic composition for skin cleaning according to an embodiment of the present invention comprises: 0.01-10 wt% of alcohol represented by chemical formula 1； and 0.1-50 wt% of glycol represented by chemical formula 2. [Chemical formula 1] R0-OH (R0 indicates an alkyl group with C1 to C10) [Chemical formula 2] R1-O-(R2-O)nR3 (R1 to R3 respectively indicate hydrogen and alkyl group with C1 to C10, and n is an integer). The cosmetic composition for skin cleaning does not include surfactant, has no stimulation for skin, has enhanced moisturization effects, and has enhanced skin cleaning effects from various contaminants including inorganic contaminants, especially, inorganic matters and silicones. [Reference numerals] (AA) Before applying； (BB) After applying standard contaminants； (CC) After washing with example 3본 발명은 피부 세정용 화장료 조성물에 관한 것으로, 본 발명의 일실시예에 따른 피부 세정용 화장료 조성물은 하기의 화학식 1로 표시되는 알코올 0.01 내지 10중량% 및 하기의 화학식 2로 표시되는 글리콜(glycol) 0.1 내지 50 중량%를 포함하는 것이다.[화학식 1]R0-OH(R0는 C1 내지 C10의 알킬기이다)[화학식 2]R1-O-(R2-O)nR3(R1 내지 R3는 각각 독립적으로 수소, C1 내지 C10의 알킬기이고, n은 정수이다)상기 피부 세정용 화장료 조성물은 계면활성제를 포함하지 않으면서도 피부에 대한 자극이 없고, 보습효과가 우수할 뿐만 아니라 무기계 오염물 특히, 무기물질 및 실리콘류의 오염물을 포함한 다양한 오염원으로부터 우수한 피부 세정 효과를 나타낸다.
