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Method for analyzing local purification apparatus, decontamination method of local purification apparatus and local purification apparatus
专利权人:
HITACHI PLANT SERVICES CO LTD;株式会社日立プラントサービス
发明人:
末松 孝章,原口 裕光,SUEMATSU TAKAAKI,HARAGUCHI HIROMITSU
申请号:
JP2018144430
公开号:
JP2020018574A
申请日:
2018.07.31
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
Problem to be solved: to provide an analysis method of a local purification apparatus capable of estimating the concentration of hydrogen peroxide gas with high accuracy.A method of analyzing a local purification apparatus according to the present invention isAn analysis method for analyzing the concentration of H.sub.2 O.sub.2 gas in the work booth section 2 in a local purification apparatus 10 comprising a plenum portion 1 having an air filter 11 and a work booth portion 2 and a hydrogen peroxide (H2O2) gas generating part 3;The plenum Part 1 and the work booth Part 2 are taken together.The first gas concentration calculation step S11 for calculating the first concentration C1 of the H.sub.2 O.sub.2 gas in the case where the air filter 11 is not provided, andIn the case of the first concentration C1An adsorption amount calculation step S12 for calculating the amount of adsorption CA of the H2O2 gas adsorbed on the air filter 11 and the stepA second gas concentration calculation step S13 for subtracting the adsorption amount Ca from the first concentration C1 to calculate the second concentration C2 of the H.sub.2 O.sub.2 gas in the work booth section 2 and.Diagram【課題】過酸化水素ガスの濃度を高い精度で推算できる局所清浄化装置の解析方法を提供する。【解決手段】本発明に係る局所清浄化装置の解析方法は、エアフィルタ11を有するプレナム部1と作業ブース部2と過酸化水素(H2O2)ガス発生部3とを備える局所清浄化装置10における前記作業ブース部2内のH2O2ガスの濃度を解析する解析方法であり、プレナム部1および作業ブース部2を一体とみなし、かつエアフィルタ11を備えていないとした場合におけるH2O2ガスの第1の濃度C1を計算する第1のガス濃度計算ステップS11と、前記第1の濃度C1である場合における、エアフィルタ11に吸着するH2O2ガスの吸着量CAを計算する吸着量計算ステップS12と、前記第1の濃度C1から吸着量CAを差し引いて作業ブース部2内の前記H2O2ガスの第2の濃度C2を計算する第2のガス濃度計算ステップS13と、を有する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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