HIGH CLEANING SILICA WITH LOW ABRASION AND METHOD FOR MAKING SAME

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专利权人:

제이. 엠. 후버 코포레이션

发明人:

싱클레어, 피츠제럴드, 에이.

申请号：

KR1020157027654

公开号：

KR1020150130369A

申请日:

2014.03.14

申请国别(地区):

KR

年份:

2015

代理人:

摘要：

Silica materials with high cleaning and low abrasion properties are described along with dentifrice compositions including silica materials and methods for making such materials.고 세정 및 저 마모 성질을 지닌 실리카 물질이 이러한 물질을 제조하는 방법 및 실리카 물질을 포함하는 치약 조성물과 함께 기술된다.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/