Exemplary system and method are provided for affecting nail growth rate, which can use a light dosage and a wavelength of light to affect a growth rate of a nail of a subject. For example, it is possible to detect a presence of a nail using, e.g., a presence detector. The nail can be irradiated over a treatment time with a light having a wavelength and a power, e.g., using a narrowband light source. Further, using a controller, it is possible to control one or more of the power and the treatment time to irradiate the nail with a light dosage that is within a biphasic light dosage range bounded by a lesser light dosage and a greater light dosage. The wavelength of the light and the light dosage can be configured to affect a growth rate of the nail. Further, it is possible to document or record (e.g., to a computer file) and/or analyze at least one parameter related to the light dosage, e.g., possibly using the controller and/or a computer device.L'invention concerne un système et un procédé donnés à titre d'exemple pour affecter la vitesse de croissance des ongles, qui peuvent utiliser une dose de lumière et une longueur d'onde de lumière pour avoir une incidence sur la vitesse de croissance d'un ongle d'un sujet. Par exemple, il est possible de détecter la présence d'un ongle à l'aide, par exemple, d'un détecteur de présence. L'ongle peut être exposé, sur une durée de traitement, à une lumière ayant une longueur d'onde et une puissance, par exemple, à l'aide d'une source de lumière à bande étroite. En outre, à l'aide d'un dispositif de commande, il est possible de commander la puissance et/ou la durée de traitement pour exploser l'ongle à une dose de lumière qui se situe à l'intérieur d'une plage de dose de lumière biphasique délimitée par une dose de lumière inférieure et une dose de lumière supérieure. La longueur d'onde de la lumière et la dose de lumière peuvent être conçues pour affecter une vitesse de croissance de l'ongle. En outre, il est possible de documen
