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저온산화 플라즈마 탈취장치
专利权人:
发明人:
JUNG, JUNG HIKR,정희정
申请号:
KR1020160055718
公开号:
KR1016611950000B1
申请日:
2016.05.04
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
Provided is a low temperature oxidation plasma deodorization apparatus. The low temperature oxidation plasma deodorization apparatus comprises: a body having a hollow part a first dehumidification part including a slide type dehumidifying net vertically installed to the hollow part of the body a second dehumidification part including a rotary dehumidifying screen positioned on a rear side of the first dehumidification part, and vertically installed to the hollow part of the body and an arc sliding plasma deodorization part installed on a rear side of the second dehumidification part. Before conducting a plasma deodorization process, the low temperature oxidation plasma deodorization apparatus maximizes efficiency of plasma deodorization by reducing water content in gas, and collecting coarse contamination factors flowing in.COPYRIGHT KIPO 2016본 발명은, 중공부를 가지는 바디, 상기 바디의 중공부에 수직으로 설치되는 슬라이드식 제습망을 포함하는 제1 제습부, 상기 제1 제습부의 후방에 위치하며 상기 바디의 중공부에 수직으로 설치되는 회전식 제습스크린을 포함하는 제2 제습부, 및 상기 제2 제습부의 후방에 설치되는 아크 슬라이딩 플라즈마 탈취부 를 포함하며, 플라즈마 탈취 공정 전에 가스 내의 수분함유량을 최대한 감소시키고 유입되는 조대 오염인자를 집진시켜 플라즈마 탈취 효율을 극대화시킬 수 있는 저온산화 플라즈마 탈취장치를 제공한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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