ARIK ZUCKER,STEFANO BUZZI,ARMIN W. MÄDER,VINCENT MILLERET,MARTIN EHRBAR,ALGIRDAS ZIOGAS
申请号：
CH19032013
公开号：
CH708833A1
申请日:
2013.11.14
申请国别(地区):
CH
年份:
2015
代理人:
摘要：
Es wird ein Implantat zur Implantation in einen Körper mit einer Oberfläche vorgesehen, die in implantiertem Zustand für einen Kontakt mit dem Körper oder einem Körperfluid vorgesehen ist und die in einem ersten Zustand eine erste Oberflächenladung aufweist. Die Oberfläche nimmt durch eine Oberflächenbehandlung einen zweiten Zustand mit einer zweiten Oberflächenladung ein, wobei die zweite Oberflächenladung eine niedrigere positive Oberflächenladung oder eine höhere negative Oberflächenladung im Vergleich zur ersten Oberflächenladung aufweist. Das Implantat wird zur Regulierung einer Adsorption von Proteinen auf der Oberfläche des Implantats in Bezug auf Art, Menge und/oder Konformation bestimmter Proteine durch einen definierten zweiten Zustand der Oberfläche, der eine definierte zweite Oberflächenladung und/oder eine definierte vorbestimmte Zusammensetzung einer Oxidschicht der Oberfläche aufweist, verwendet.There is provided an implant for implantation in a body having a surface provided in an implanted state for contact with the body or body fluid and having a first surface charge in a first state. The surface occupies a second state with a second surface charge by a surface treatment, the second surface charge having a lower positive surface charge or a higher negative surface charge compared to the first surface charge. The implant is used to regulate an adsorption of proteins on the surface of the implant with respect to the type, amount and / or conformation of certain proteins by a defined second state of the surface, a defined second surface charge and / or a defined predetermined composition of an oxide layer of the surface has used.
