Es wird ein Implantat zur Implantation in einen Körper mit einer Oberfläche vorgesehen, die in implantiertem Zustand für einen Kontakt mit dem Körper oder einem Körperfluid vorgesehen ist und die in einem ersten Zustand eine erste Oberflächenladung aufweist. Die Oberfläche nimmt durch eine Oberflächenbehandlung einen zweiten Zustand mit einer zweiten Oberflächenladung ein, wobei die zweite Oberflächenladung eine niedrigere positive Oberflächenladung oder eine höhere negative Oberflächenladung im Vergleich zur ersten Oberflächenladung aufweist. Das Implantat wird zur Regulierung einer Adsorption von Proteinen auf der Oberfläche des Implantats in Bezug auf Art, Menge und/oder Konformation bestimmter Proteine durch einen definierten zweiten Zustand der Oberfläche, der eine definierte zweite Oberflächenladung und/oder eine definierte vorbestimmte Zusammensetzung einer Oxidschicht der Oberfläche aufweist, verwendet.The invention relates to an implant for implantation into a body. The implant comprises a surface that is provided for contact with the body or a body fluid when implanted and which surface has a first surface charge when in a first state. The surface assumes a second state having a second surface charge as a result of surface treatment, the second surface charge having a lower positive surface charge or a higher negative surface charge than the first surface charge. The implant is used for regulating an adsorption of proteins on the surface of the implant in terms of type, quantity and/or conformation of certain proteins by means of a defined second state of the surface, which has a defined second surface charge and/or a defined predetermined composition of an oxide layer of the surface.L'invention concerne un implant, destiné à être implanté dans un corps, qui possède une surface appelée à être en contact, dans l'état implanté, avec le corps ou avec un fluide corporel et qui présente dans un premier état une première charge superficielle. Un traitement de su
