包含聚合物系留的纳米颗粒的光致抗蚀剂
- 专利权人:
- 3M创新有限公司
- 发明人:
- D·H·雷丁杰,R·J·德沃埃,B·厄尔多甘-豪格
- 申请号：
- CN201280027990.7
- 公开号：
- CN103608726A
- 申请日:
- 2012.05.23
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了可以制备高保真性微细加工结构的组合物例如光致抗蚀剂以及微细加工方法。所述提供的光致抗蚀剂在所述显影阶段可以具有降低的溶胀程度，并且可以为可用于例如医疗领域的产品如微针提供紧密度容限。所述提供的组合物包含光致抗蚀剂、分散在所述光致抗蚀剂中的光引发剂体系和分散在所述光致抗蚀剂中的聚合物系留的纳米颗粒。所述光致抗蚀剂可以是负性光致抗蚀剂，并且所述光引发剂体系可以包括双光引发剂体系。所述聚合物系留的纳米颗粒可以包含丙烯酸类聚合物，并且在一些实施例中可以包含聚(甲基丙烯酸甲酯)。所述纳米颗粒可以包含二氧化硅。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
