Systems (and methods therefor) for generating EUV radiation that comprise an arrangement producing a laser beam directed to an irradiation region and a droplet source. The droplet source includes a fluid exiting an orifice and a sub-system having an electro-actuatable element producing a disturbance in the fluid. The electro-actuatable element is driven by a first waveform to produce droplets for irradiation to generate the EUV radiation, the droplets produced by the first waveform having differing initial velocities causing at least some adjacent droplets to coalesce as the droplets travel to the irradiation region, and a second waveform, different from the first waveform, to dislodge contaminants from the orifice.Selon linvention, des systèmes (et des procédés associés) conçus pour générer des rayonnements UVE comprennent un agencement qui produit un faisceau laser dirigé vers une région exposée aux rayonnements, et une source de gouttelettes. La source de gouttelettes comprend un fluide sortant dun orifice et un sous-système ayant un élément électroactionnable qui produit une perturbation dans le fluide. Lélément électroactionnable est actionné par une première forme donde pour produire des gouttelettes destinées aux rayonnements afin de générer les rayonnements UVE, les gouttelettes produites par la première forme donde présentant des vitesses initiales différentes ce qui amènent au moins certaines gouttelettes adjacentes à coalescer, à mesure que les gouttelettes sacheminent vers la région exposée aux rayonnements, et par une seconde forme donde différente de la première pour déloger des contaminants de lorifice.
