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ÉLECTRODE HAUTE FRÉQUENCE POUR DISPOSITIF MÉDICAL ET DISPOSITIF MÉDICAL
专利权人:
オリンパス株式会社;OLYMPUS CORPORATION
发明人:
TSUDA Kentaro,津田健太郎,KASAI Hiroaki,葛西広明,FUJIHARA Takuya,藤原卓矢,MURANO Yu,村野由
申请号:
JPJP2018/005976
公开号:
WO2018/190000A1
申请日:
2018.02.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
This high-frequency electrode for a medical device comprises an electrode substrate and an oxide. The electrode substrate is made of a metal or an alloy. The oxide is incorporated into the electrode substrate. The metal or alloy has a melting point of 2000ºC or higher. The oxide has a particle size of 2 µm or more.L'invention concerne une électrode haute fréquence pour un dispositif médical comprenant un substrat d'électrode et un oxyde. Le substrat d'électrode est constitué d'un métal ou d'un alliage. L'oxyde est incorporé dans le substrat d'électrode. Le métal ou l'alliage a un point de fusion de 2000°C ou plus. L'oxyde a une taille de particule de 2 µm ou plus.医療機器用高周波電極は、電極基材と、酸化物と、を含む。電極基材は、金属または合金からなる。酸化物は電極基材中に添加される。金属または合金は、2000℃以上の融点を有する。酸化物は、2μm以上の粒径を有する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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