您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

頭髪洗浄料
专利权人:
株式会社;資生堂
发明人:
石窪 章,大森 隆司,鈴木 祐子,杉山 由紀
申请号:
JP2008078708
公开号:
JP5022962B2
申请日:
2008.03.25
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hair cleansing agent which imparts good feel, especially smoothness and lightness, to the hair after use and shows a good foamability.SOLUTION: The hair cleansing agent comprises 0.01-15 mass% alkylene oxide derivative of formula (I): Z-{O-[(AO)a-(EO)b]-R}2 (wherein Z is a residue obtained by removing a hydroxyl group from a dimer diol EO is an oxyethylene group AO is a 3-4C oxyalkylene group a and b are average added molar numbers of the AO group and the EO group, respectively, and satisfy the relations: 1&le2×a&le150 and 1&le2×b&le150 the proportion of the EO group against the total of the AO and EO groups is 10-99 mass% and Rs are identical to or different from each other and are each a 1-4C hydrocarbon group) and 1-20 mass% cocoyl methyl taurine salt and/or polyoxyethylene lauryl sulfate.COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT【課題】 使用後の髪の感触、特になめらかさ、サラサラ感に優れ、且つ泡立ち良好な頭髪洗浄料を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)で示されるアルキレンオキシド誘導体0.01~15質量%と、ココイルメチルタウリン塩及び/又はポリオキシエチレンラウリル硫酸塩1~20質量%とを含有することを特徴とする頭髪洗浄料。Z-{O-[(AO)a-(EO)b]-R}2 (I)(式中、Zは、ダイマージオールから水酸基を除いた残基、EOはオキシエチレン基、AOは炭素数3~4のオキシアルキレン基である。aおよびbは、各々前記AO基、EO基の平均付加モル数で、1≦2×a≦150、1≦2×b≦150であり、AO基とEO基の合計に対するEO基の割合は10~99質量%である。Rは、同一もしくは異なってもよい炭素数1~4の炭化水素基である。)【選択図】 なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充