The present invention provides spinous process implant and associated methods. In one aspect of the invention the implant limits the maximum spacing between the spinous processes. In another aspect of the invention, a spacer has at least one transverse opening to facilitate tissue in-growth. In another aspect of the invention, an implant includes a spacer and separate extensions engageable with the spacer. The spacer is provided in a variety of lengths and superior to inferior surface spacings. In another aspect of the invention, an implant includes a spacer and a cerclage element offset from the midline of the spacer in use so that the spacer defines a fulcrum and the cerclage element is operative to impart a moment to the vertebrae about the spacer. In another aspect of the invention, instrumentation for inserting the implant is provided. In other aspects of the invention, methods for treating spine disease are provided.La presente invención proporciona implante de apófisis espinal y métodos asociados. En un aspecto de la invención, el implante limita la separación máxima entre las apófisis espinales. En otro aspecto de la invención, un separador tiene por lo menos una abertura transversal para facilitar el crecimiento interno de tejido. En otro aspecto de la invención, un implante incluye un separador y extensiones separadas que se pueden acoplar con el separador. El separador se proporciona en una variedad de longitudes y separaciones de superficie superior a inferior. En otro aspecto de la invención, un implante incluye un separado y un elemento de cerclaje desviado desde la línea media del separador durante uso de manera que el separador define un fulcro y el elemento de cerclaje opera para impartir un momento a las vertebras alrededor del separador. En otro aspecto de la invención, se proporciona instrumentación para insertar el implante. En otros aspectos de la invención, se proporcionan métodos para tratar enfermedades de la espina dorsal.
