the present invention is to the measurement light emitted from the measurement target is incident on the fixed mirror section and the movable mirror unit, the measured reflected by the fixed mirror section the measured light and the movable mirror unit reflected by the to form the optical interference of light. At this time, by moving the movable parts of the mirror obtain interference light of measurement light intensity change, on the basis of the change determined by the grams of measurement light interferometer. In addition, at the same time, the part reference light of the narrow-band wavelength of the measurement light wavelength band, of the fixed mirror section and was incident on the movable mirror unit, the reference light reflected by the reference beam and the movable mirror unit reflected by the fixed mirror section to form interference light. At this time, the movable parts of the mirror movement by the basis of the amplitude, and the measurement light and the phase difference between the reference light of the wavelength as the reference light of the measurement light of the interference light intensity changes of the reference beam, and correcting the program in the measurement light interface, the corrected based on the gram to interface to obtain the measurement light spectrum.본 발명은 측정 대상으로부터 발사된 측정광을 고정 미러부와 가동 미러부에 입사시켜, 상기 고정 미러부에 의해서 반사된 측정광과 상기 가동 미러부에 의해서 반사된 측정광의 간섭광을 형성한다. 이때, 상기 가동 미러부를 이동시킴으로써 측정광의 간섭광 강도 변화를 얻고, 이 변화에 기초하여 측정광의 인터페로그램을 구한다. 또, 동시에, 측정광의 파장 대역의 일부인 협대역 파장의 참조광을, 상기 고정 미러부와 상기 가동 미러부에 입사시켜, 그 고정 미러부에 의해서 반사된 참조광과 그 가동 미러부에 의해서 반사된 참조광의 간섭광을 형성한다. 이때, 상기 가동 미러부를 이동시킴으로써 참조광의 간섭광 강도 변화의 진폭, 및 상기 측정광 중 상기 참조광과 같은 파장의 측정광과 상기 참조광의 위상차에 기초하여 상기 측정광의 인터페로그램을 보정하고, 보정 후의 인터페로그램에 기초하여 상기 측정광의 스펙트럼을 구한다.
