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低臭加工ニンニクの製造装置及び製造方法
专利权人:
ASUNAROHONPO CO.; LTD.
发明人:
IMANAKA Hiromi,今中 ひろみ
申请号:
JPJP2014/052046
公开号:
WO2015/114764A1
申请日:
2014.01.30
申请国别(地区):
WO
年份:
2015
代理人:
摘要:
A manufacturing device for low-odor processed garlic (1) comprises a low-odor processing solution storage container (10) in which a low-odor processing solution is stored, a gasification device (11) that atomizes or gasifies the low-odor processing solution, a low-odor processing reaction tank (30) in which garlic is disposed, the atomized or gasified low-odor processing solution is introduced, and the garlic is made to have low odor, and piping (20) that connects the low-odor processing solution storage container (10) and the low-odor processing reaction tank (30) and through which the atomized or gasified low-odor processing solution passes to the low-odor processing reaction tank (30).La présente invention concerne un dispositif de fabrication pour de lail (1) traité peu odorant comportant un récipient (10) de stockage de solution de traitement peu odorante dans laquelle est stockée une solution de traitement peu odorante, un dispositif (11) de gazéification qui atomise ou gazéifie la solution de traitement peu odorante, une cuve (30) de réaction de traitement peu odorante dans laquelle est placé lail, la solution de traitement peu odorante atomisée ou gazéifiée est introduite et lail est fabriqué de manière à être peu odorant, et un tuyau (20) qui relie le récipient (10) de stockage de solution de traitement peu odorante et la cuve (30) de réaction de traitement peu odorante et à travers lequel passe la solution de traitement peu odorante atomisée ou gazéifiée pour être amenée à la cuve (30) de réaction de traitement peu odorante.低臭加工ニンニクの製造装置1は、低臭加工溶液が貯留される低臭加工溶液貯留容器10と、低臭加工溶液を霧化或いは気化させるガス化装置11と、ニンニクが配置されるとともに霧化或いは気化された低臭加工溶液が導入されてニンニクの低臭化が行われる低臭加工反応槽30と、低臭加工溶液貯留容器10と低臭加工反応槽30とをつなぎ霧化或いは気化された低臭加工溶液が通過して低臭加工反応槽30へ流入する配管20と、を備える。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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