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Apparatus and method for re-testing a medical device
专利权人:
ETHICON; INC
发明人:
DANG MINH NGO,SUNGWOOK YANG
申请号:
BR102017010335
公开号:
BR102017010335A2
申请日:
2017.05.17
申请国别(地区):
BR
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present disclosure describes an apparatus and method for reprocessing a medical device including a decontamination vat, a first purge conduit, a second purge conduit, and a tubing. the first and second purge conduits have respective first and second coupling ports configured to fluidly connect to the medical device positioned within the decontamination vessel. The tubing is fluidly connected to the first and second bleed ducts and configured to properly distribute the fluid received therein. The apparatus also includes a first valve, a second valve and a main pump configured to purge fluid in the pipeline to a predetermined supply flow. the first and second valves are positioned, respectively, in the first and second purge conduits to balance the respective discharges discharged from them to a first predetermined conduit flow and a second predetermined conduit flow.a presente revelação descreve um aparelho e método para reprocessamento de um dispositivo médico que incluem uma cuba de descontaminação, um primeiro conduto de purga, um segundo conduto de purga e uma tubulação. o primeiro e segundo condutos de purga têm respectivas primeira e segunda portas de acoplamento configuradas para conectarem-se de forma fluida ao dispositivo médico posicionado no interior da cuba de descontaminação. a tubulação está conectada de forma fluida ao primeiro e ao segundo condutos de purga e configurada para distribuir o fluido recebido nela de forma adequada. o aparelho também inclui uma primeira válvula, uma segunda válvula e uma bomba principal configurada para purgar o fluido na tubulação a uma vazão de suprimento predeterminada. a primeira e segunda válvulas estão posicionadas, respectivamente, nos primeiro e segundo condutos de purga para equilibrar as respectivas vazões descarregadas deles a uma primeira vazão de conduto predeterminada e uma segunda vazão de conduto predeterminado.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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