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DFMB誘導体の製造方法
专利权人:
ローディア オペレーションズ
发明人:
チャン, タオ,メルシエ, クロード,ブイジーネ, オリヴィエ
申请号:
JP2014556900
公开号:
JP2015506991A
申请日:
2012.02.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
The present invention relates to a manufacturing method of a compound of formula (IH) is disclosed. The method includes the step of reacting a compound of a compound of an excess of formula (II) of the formula (I) in the absence of an aromatic solvent, In the formula, - N is 0, 1, 2, 3, or a 4, - X is NH, O, or S, - each R 1 group is independently hydrogen may be identical or different, hydroxyl, alkoxy, alkyl, carbonyl, carboxyl, carboxylic acid ester group, an amide, cyano, halogenated aliphatic and is selected from the group consisting of nitro, or amino group, - R 2 group is a hydroxyl, Cl, F, Br, amino, or a group consisting of alkoxy It is selected from.本発明は、式(IH)の化合物の製造方法が開示される。本方法は、芳香族系溶媒の不存在下で式(I)の化合物を過剰の式(II)の化合物と反応させる工程を含み、式中、- nは0、1、2、3、又は4であり、- XはNH、O、又はSであり、- 各R1基は同じでも異なってもよく独立に水素、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキル、カルボニル、カルボキシル、カルボン酸エステル基、アミド、シアノ、ハロゲン化脂肪族、ニトロ、又はアミノ基からなる群から選択され、- R2基はヒドロキシル、Cl、F、Br、アミノ、又はアルコキシからなる群から選択される。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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