基板表面のシラノール基の分析方法
- 专利权人:
- 東京エレクトロン株式会社
- 发明人:
- 金子 都,野呂 尚孝
- 申请号：
- JP20160158530
- 公开号：
- JP2018026492(A)
- 申请日:
- 2016.08.12
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】表面にシリコンを有する基板において、表面のシラノール基を正確に定量分析する。【解決手段】表面にシリコンを有する基板に金属化合物ガスを供給し、基板の表面に存在するシラノール基に対し、金属化合物ガスを反応させて化学修飾する工程と、基板の表面に吸着された金属化合物に含まれる金属の濃度を測定する工程と、測定された金属の濃度と、金属化合物が基板表面のシラノール基に吸着できる割合とに基づいて、シラノール基の濃度を算出する工程とを有する。【選択図】 図３
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
