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SUBSTRATE AGENT FOR GEL NAIL OR MANICURE
专利权人:
TN CORP;合同会社TNコーポレーション
发明人:
NAKAI TETSUJI,中井 哲治,HARADA YUTAKA,原田 豊
申请号:
JP2016183413
公开号:
JP2018048085A
申请日:
2016.09.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To easily remove a gel nail without impairing the adhesion of the gel nail to a real nail or the durability of it.SOLUTION: A gel-like artificial nail composition is applied to a nail and then is irradiated with light for curing to prepare the artificial nail, wherein, a substrate agent is applied to the nail prior to application of the artificial nail composition, and the substrate agent contains a solvent and one or more acrylic resin copolymers.SELECTED DRAWING: Figure 5【課題】ジェルネイルの爪に対する密着性、耐久性を損なうことなく、ジェルネイルを除去しやすくする。【解決手段】ジェル状の人工爪組成物を爪に塗布した後光を照射してこれを硬化させ人工爪を作製するにあたり、当該人工爪組成物の塗布に先んじて爪に塗布する下地剤であって、溶剤及び一種類以上のアクリル樹脂系共重合体を配合した下地剤を構成した。【選択図】図5
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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